English  |  正體中文  |  简体中文  |  全文筆數/總筆數 : 4334/7631
造訪人次 : 3182735      線上人數 : 300
RC Version 3.2 © Powered By DSPACE, MIT. Enhanced by NTU Library IR team.
搜尋範圍 進階搜尋

請使用永久網址來引用或連結此文件: http://ir.hust.edu.tw/dspace/handle/310993100/1296

題名: Effect of Bi4Ti3O12 Thin Films on ITO/Glass and Pt/Si Substrates Prepared by R.F. Sputtering and Rapid Thermal Annealing Method
作者: W. K. Chia;Y. C. Chen;C. F. Yang;S. L. Young;W. D. Jiang;Y. T. Tsa
日期: 2006
上傳時間: 2009-02-03T06:49:46Z
關聯: Journal of Electroceramics, In press, 2006
顯示於類別:[電機工程系(含碩士班)] 期刊論文

文件中的檔案:

沒有與此文件相關的檔案.

在HUSTIR中所有的資料項目都受到原著作權保護.

 

DSpace Software Copyright © 2002-2004  MIT &  Hewlett-Packard  /   Enhanced by   NTU Library IR team Copyright ©   - 回饋