Hsiuping University of Science and Technology Institutional Repository : Item 310993100/1380
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题名: Diffusion barrier properties of single- and multilayered quasi-amorphous tantalum nitride thin films against copper penetration
作者: G. S. Chen;S. T. Chen
日期: 2000
上传时间: 2009-02-03T07:01:11Z
關聯: J. Appl. Phys., 87, pp. 8473?8482. (SCI)
显示于类别:[電子工程系] 期刊論文

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