Hsiuping University of Science and Technology Institutional Repository : Item 310993100/1409
English  |  正體中文  |  简体中文  |  全文笔数/总笔数 : 4343/7642
造访人次 : 3671375      在线人数 : 318
RC Version 3.2 © Powered By DSPACE, MIT. Enhanced by NTU Library IR team.
搜寻范围 进阶搜寻

jsp.display-item.identifier=請使用永久網址來引用或連結此文件: http://ir.hust.edu.tw/dspace/handle/310993100/1409

题名: Plasma passivation of siloxane-based low-k polymeric films: a comparison of single and mixed (O2/N2/H2) gas sources
作者: S. T. Chen;G. S. Chen;T. J. Yang
日期: 2003
上传时间: 2009-02-03T07:02:40Z
關聯: J. Electrochem. Soc., 150, F194?F199. (SCI)
显示于类别:[電子工程系] 期刊論文

文件中的档案:

没有与此文件相关的档案.

在HUSTIR中所有的数据项都受到原著作权保护.

 

DSpace Software Copyright © 2002-2004  MIT &  Hewlett-Packard  /   Enhanced by   NTU Library IR team Copyright ©   - 回馈