資料載入中.....
|
請使用永久網址來引用或連結此文件:
http://ir.hust.edu.tw/dspace/handle/310993100/1951
|
| 題名: | 以低溫水熱電化學法製備鈣鈦礦陶瓷膜之研究 |
| 作者: | 李文利;王中男;吳冠德;張益彬;林政文 |
| 貢獻者: | 化學工程系 |
| 日期: | 2009-12-30
|
| 上傳時間: | 2011-01-25T07:19:13Z
|
| 摘要: | 本研究主要採用以往文獻中從未使用之鍍氮化鈦膜矽晶片(TiN/Si)來當基材，利用低溫水熱法-電化學法作用之方式來成長鈦酸鈣膜、鈦酸鍶膜，反應溶液為0.5M 氫氧化鈣 (Ca(OH)2)或0.5M 醋酸鍶 (Sr(CH3COO)2)及2M氫氧化鈉 (NaOH)之電解液，探討在控制溶液溫度、電壓及反應時間之條件對鈦酸鈣 (CaTiO3)膜、鈦酸鍶 (SrTiO3)膜成長之影響。結果顯示以低溫水熱-電化學法方式可成功的於TiN/Si上成長出立方相SrTiO3膜，但無法生成出斜方相的CaTiO3膜。反應電壓必須要在2V以上才可有明顯SrTiO3膜之生成，以2V定電壓反應15 min後TiN膜可完全轉化成SrTiO3膜，生成之膜厚約3m。在固定電壓下增加反應時間可明顯增加SrTiO3膜之膜厚，故可以控制反應時間以獲得所需之膜厚。 |
| 顯示於類別: | [能源與材料科技系] 學生專題
|
文件中的檔案:
| 檔案 |
大小 | 格式 | 瀏覽次數 |
|---|
| 以低溫v10.pdf | 1161Kb | Adobe PDF | 2730 | 檢視/開啟 |
|
在HUSTIR中所有的資料項目都受到原著作權保護.
|
