Hsiuping University of Science and Technology Institutional Repository : Item 310993100/2515
English  |  正體中文  |  简体中文  |  全文笔数/总笔数 : 4334/7631
造访人次 : 3191487      在线人数 : 195
RC Version 3.2 © Powered By DSPACE, MIT. Enhanced by NTU Library IR team.
搜寻范围 进阶搜寻

jsp.display-item.identifier=請使用永久網址來引用或連結此文件: http://ir.hust.edu.tw/dspace/handle/310993100/2515

题名: 致冷晶片應用及最佳化探討
作者: 邱孝昇
贡献者: 電機工程系
关键词: 致冷晶片
席貝克效應
柏爾沾效應
日期: 2011-04-29
上传时间: 2011-10-14T13:53:43Z
摘要: 十九世紀半導體吸放熱原理被發現後，許多科學家便開始去琢磨其中可應用的範
圍，直到大型半導體晶粒去實驗其循環過程發展到了二十世紀，利用最小奈米化
的製成許多P型與N型半導體串接成一個效能明顯的致冷晶片。

本專體系利用致冷晶片的冷熱端溫差去控制，可提供未來設計此類應用的設計者
一個設計概念
显示于类别:[電機工程系(含碩士班)] 學生專題

文件中的档案:

档案 大小格式浏览次数
全文.pdf1513KbAdobe PDF5049检视/开启

在HUSTIR中所有的数据项都受到原著作权保护.

 

DSpace Software Copyright © 2002-2004  MIT &  Hewlett-Packard  /   Enhanced by   NTU Library IR team Copyright ©   - 回馈