Hsiuping University of Science and Technology Institutional Repository : Item 310993100/2515
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題名: 致冷晶片應用及最佳化探討
作者: 邱孝昇
貢獻者: 電機工程系
關鍵詞: 致冷晶片
席貝克效應
柏爾沾效應
日期: 2011-04-29
上傳時間: 2011-10-14T13:53:43Z
摘要: 十九世紀半導體吸放熱原理被發現後,許多科學家便開始去琢磨其中可應用的範
圍,直到大型半導體晶粒去實驗其循環過程發展到了二十世紀,利用最小奈米化
的製成許多P型與N型半導體串接成一個效能明顯的致冷晶片。

本專體系利用致冷晶片的冷熱端溫差去控制,可提供未來設計此類應用的設計者
一個設計概念
顯示於類別:[電機工程系(含碩士班)] 學生專題

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