Hsiuping University of Science and Technology Institutional Repository : Item 310993100/2574

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Title:	氧化鋁鋅透明導電薄膜霧化特行研究
Authors:	張岳勳;張治煒;邱炯翰;詹翎渙
Contributors:	電子工程系
Keywords:	AZO Al2O3 磁控濺鍍氧化鋁鋅霧化
Date:	2010-12-29
Issue Date:	2011-11-10T12:51:06Z
Abstract:	本實驗以磁控直流(DC)濺鍍法製備鋁氧化鋅(AZO)基板，再以融膠凝膠法透過旋轉塗佈方式，將摻有微米級氧化鋁(Al2O3)粉末之AZO容易塗怖在基板上，然後浸泡於0.05M之鹽酸容易進行蝕刻動作，蝕刻時間為5秒、10秒以及15秒，藉由調整AL2O3摻雜濃度與蝕刻秒數，觀察其不同製程環境下的特性變化。發現經AL2O3霧化處理後試片穿透率約為55%~75%，隨著蝕刻時間增加，穿透率也明顯上升，霧度量測則落在20~30之間。 XRD繞射圖中發現AZO薄膜具有ZnO(002)之擇優取向，片電阻方面使用霍爾效應量測儀與四點探測針均無法測量，改以三用電表量測後發現，電阻值高達數十KΩ到數百KΩ不等，且隨著量測電改變而變化，目前推斷原因為塗佈三層AZO溶液所形成的薄膜太厚，本次實驗的蝕刻時間不足以將其蝕刻完全，致使表面的Al2O3顆粒阻斷了電子傳送。
Appears in Collections:	[Department of Electronic Engineering] Monograph

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