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題名: 以雷射光水平技術量測薄膜的應力
作者: 劉文翔
貢獻者: 修平技術學院電機工程學系
關鍵詞: 薄膜應力
雷射光水平技術
化學氣相沉積
日期: 2010-03
上傳時間: 2013-08-13T05:27:55Z
摘要: 在大型積體電路製程中，若薄膜的製程技術不當，常會發生薄膜收縮，龜裂等問題，以致造成產品良率下降。因此如何量測薄膜的應力成為積體電路製程中另一項重要的課題。本文中利用雷射光水平技術量測二氧化矽 ( SiO2 )，氮化矽 ( Si3N4 ) 和金屬鋁 ( Al ) 等的薄膜。
關聯: 修平學報 20, 137-146
顯示於類別:[電機工程系(含碩士班)] 期刊論文

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