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題名: 摻鋰氧化鋅薄膜與奈米柱陣列的特性與在紫外光感測器的應用
作者: 林嘉鴻
貢獻者: 電機工程
關鍵詞: 氧化鋅
溶膠凝膠法
水熱法
奈米柱
紫外光感測器
日期: 2014-06
上傳時間: 2014-08-12T03:39:21Z
摘要: 本篇論文主要是研究利用溶膠凝膠法旋鍍摻鋰氧化鋅透明導電薄膜,並在不同的燒結溫度以及不同摻雜比例的情形下,探討對氧化鋅薄膜特性的影響;以及成長摻鋰氧化鋅奈米柱陣列,探討不同的成長時間以及不同摻雜比例對氧化鋅奈米柱特性的影響,並製作紫外光感測器,量測其紫外光的亮/暗電流特性。
摻鋰氧化鋅薄膜的部分,藉由X光繞射觀察晶體結構,繞射峰 ( 002 ) 訊號強度隨著摻雜比例的增加而變弱。藉由掃描式電子顯微鏡分析,摻雜鋰氧化鋅薄膜隨著摻雜比例的增加晶粒逐漸變小,但隨著溫度的提升,晶粒則逐漸變大。在光學性質方面,利用紫外光-可見光-近紅外光光譜儀量測薄膜的穿透率,製備的樣品在可見光範圍有80%以上的高穿透率,亦藉由光致螢光光譜儀觀察摻鋰氧化鋅薄膜的品質,隨著摻雜濃度的增加缺陷變多,但隨溫度的增加,缺陷則變少。利用霍爾量測觀察其電性,摻雜鋰氧化鋅薄膜的摻雜濃度提高時,薄膜的載子濃度也相對降低,電子遷移率也減少,但電阻率會增加,而燒結溫度提高時,載子濃度相對提升,電子遷移率也會增加,電阻率下降。
在摻鋰氧化鋅奈米柱的部分,繞射峰 ( 002 ) 訊號強度隨著摻雜比例的增加而變弱。掃描式電子顯微鏡分析得知,隨著摻雜比例的增加,奈米柱寬度有變小的趨勢,但隨著時間的增加,奈米柱長度逐漸變大。藉由光致螢光光譜儀觀察摻鋰氧化鋅奈米柱的品質,摻雜濃度的增加奈米柱的缺陷變多,隨時間的增加,缺陷則變少。
最後透過銦球做為摻鋰氧化鋅薄膜與奈米柱在矽基板的接觸電極,並量測摻鋰氧化鋅薄膜/n-type矽基板與摻鋰氧化鋅奈米柱陣列/n-type矽基板兩種異質接面紫外光感測器的光電特性,結果發現奈米柱陣列結構有較佳的亮/暗電流比,其中在偏壓電壓為5V時亮/暗電流比可達458.3%。
顯示於類別:[電機工程系(含碩士班)] 學位論文

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