Hsiuping University of Science and Technology Institutional Repository : Item 310993100/4562

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Title:	多鐵性BiFeO3摻雜鎳元素薄膜特性研究
Authors:	林泓逸;賴廷祐;陳建宏;任祥瑋
Contributors:	電子工程系
Keywords:	多鐵性薄膜
Date:	2014-12
Issue Date:	2015-08-04T01:14:57Z
Abstract:	本研究以溶膠凝膠法製備BiFeO3 多鐵性薄膜，透過旋轉塗佈法將薄膜沉積在FTO 基板上，並?用快速熱退火(Rapid Thermal Annealing， RTA)在大氣氛圍下作熱處?。本實驗分為二部分探討，分別為純相BFO 薄膜沉積在FTO 基板上，經?同退火溫?熱處?後的特性比較和摻雜微?的Ni，探討BiFe1-xNixO3(BFNO)的特性。本薄膜摻雜?同含?的Ni 分別為x = 0.02、0.04、0.06、0.08、0.10、 0.12。由實驗結果得知純相BFO 薄膜分別沉積在FTO 基板上，退火溫 ?為450 oC 時有最佳的晶相，無二次相的產生，並且有最佳的鐵電性。 BFO 薄膜摻雜Ni 能有效抑制Fe3+與Fe2+間的變動，減少氧空缺產生，表面結構因Ni 的摻雜而變得致密，而產生較佳的鐵電性。最後經實驗結果證實透過摻雜的方式會讓結構的鐵電薄膜均能有改善純相BFO 的鐵電性、介電性、?電?、光伏性。
Appears in Collections:	[Department of Electronic Engineering] Monograph

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