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http://ir.hust.edu.tw/dspace/handle/310993100/5010
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| 題名: | 不同成長基板對BiFeO3薄膜之相關特性研究 |
| 作者: | 洪宇興;陳敬之;洪敬傑;王藝蒙 |
| 貢獻者: | 修平科技大學電子工程系 |
| 關鍵詞: | BFO薄膜 |
| 日期: | 2015-12
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| 上傳時間: | 2016-05-14T08:15:21Z
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| 摘要: | "本專題以溶膠凝膠法製備BiFeO3 (BFO)多鐵性薄膜，透過旋轉塗
佈法將薄膜分別沉積在不鏽鋼基板(stainless steel)和FTO/glass基板
上，並利用紅外線快速升溫爐(Rapid Thermal Annealing，RTA)進行退
火處理。在本研究中將會探討兩種基板上所成長的BFO薄膜的微結
構、鐵電性、介電性及漏電流等特性，並相互比較其優劣。
本實驗中藉由XRD量測證實了BFO薄膜成功的生長在兩種基板
上，經由後續的鐵電、介電、漏電流之量測，發現BFO成長在不鏽鋼
基板的各種特性均優於成長在FTO/glass上，其中漏電流部分成長在
不鏽鋼基板上比成長在FTO/glass的漏電流小100倍，這對不鏽鋼基板
來說是一個非常大的優勢，而在鐵電量測部分，成長在不鏽鋼基板所
量測出來的Ec=8.33 (kv/cm)， Pr=80 (μc/cm2)也優於成長在FTO/glass
上，以上量測證實了純相BFO薄膜成長在不鏽鋼基板上比成長在
FTO/glass上來的佳。" |
| 顯示於類別: | [電子工程系] 學生專題
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