Hsiuping University of Science and Technology Institutional Repository : Item 310993100/5013
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题名: 裝飾性非晶質碳氫薄膜之研究
作者: 祝恆頤;蔡志宏;江柏融;詹佩儀
贡献者: 修平科技大學電子工程系
关键词: "射頻電 漿沉積"
日期: 2015
上传时间: 2016-05-14T08:17:03Z
摘要: "本研究利用甲苯溶劑取得碳的來源，以進行電將輔助化學氣相沉積a-C:H
薄膜。甲苯溶液前驅物透過加熱氣化，以管路導入真空腔體內利用射頻電
漿沉積a-C:H 薄膜在矽基材上。透過拉曼光譜分析顯示，隨著射頻功率越
高，a-C:H 薄膜之ID/IG 越大。實驗結果以250 瓦射頻所沉積之a-C:H 薄膜
越接近類鑽成分。本研究利用不同厚度之a-C:H 薄膜，因入射光線與a-C:H
薄膜產生干涉而導致薄膜顏色產生差異。因此利用這項技術可以將生活中
的金屬物品鍍上一層不同厚度之裝飾性a-C:H 薄膜，可讓物品有不同的顏
色及硬度，並具有保護的效果。"
显示于类别:[電子工程系] 學生專題

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