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題名: | 電暈處理效果之自動調整系統 |
作者: | 許耿禎 |
貢獻者: | 修平技術學院 |
日期: | 2007-02-01
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上傳時間: | 2008-11-06T08:22:11Z
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摘要: | 本發明電暈處理效果之自動調整系統包含有一傳送機構裝置,用於提供一連續橫向移動之功能。一電暈放電器,設於傳送機構裝置之一側,用於提供一適當之放電效果,對待加工物品表面放電。一CCD偵測器,設於傳送機構裝置之一側,該偵測器可以轉動或是水平移動,以調整及改變偵測器的觀測位置或角度。一調整控制處理器,分別與偵測器、電暈放電器、傳送機構裝置連接,可依CCD偵測器所測得的數?調整傳送機構裝置橫向移動的速度,或改變電暈放電器的相對位置,或控制其輸入電流、電壓的大小,使待加工物品的電暈處理效果能一次達到可接受的程度。 |
顯示於類別: | [電機工程系(含碩士班)] 專利
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