Hsiuping University of Science and Technology Institutional Repository : Item 310993100/6607
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Please use this identifier to cite or link to this item: http://ir.hust.edu.tw/dspace/handle/310993100/6607

Title: 多鐵性BiFeO3薄膜成長於不同基板相關特性之研究
Authors: 鄭冠生
林京鴻
莊元淞
劉博裕
Contributors: 電子工程系
Keywords: 溶膠凝膠
薄膜
多鐵電
鐵電
磁性
介電性
漏電流
Date: 2018-06-22
Issue Date: 2018-09-28T03:11:28Z
Abstract: 本研究以溶膠凝膠法製備BiFeO3 (BFO)多鐵性薄膜,透過旋轉塗佈法將薄膜分別沉積在SiO2/Si基板和Si基板上,並利用RTA快速升溫爐在常壓無通氧下,進行退火處理。本研究將純BFO分別於不同基板上成長並形成BFO/SiO2/Si、BFO/Si之結構。且在相異溫度下進行高溫熱處理比較其特性。並依序個別進行純相BFO在不同基板上成長薄膜之X-ray、SEM。
從X-ray量測可證實純相BFO薄膜已成功的製備出來,並獲得BFO/SiO2/Si、BFO /Si最佳退火溫度都是600oC,有二次相的生成,相對BFO/SiO2/Si來說BFO /Si的晶相穩定許多。在鐵電特性方面,可能因SiO2/Si基板為絕緣體,較難量出電性,導致電性實驗須克服,未來可鍍白金(Pt)、ITO、FTO作為下電極增加其導電性,以服電性量測。
Appears in Collections:[Department of Electronic Engineering] Monograph

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