Hsiuping University of Science and Technology Institutional Repository : Item 310993100/7206
English  |  正體中文  |  简体中文  |  全文笔数/总笔数 : 4334/7631
造访人次 : 3199021      在线人数 : 127
RC Version 3.2 © Powered By DSPACE, MIT. Enhanced by NTU Library IR team.
搜寻范围 进阶搜寻

jsp.display-item.identifier=請使用永久網址來引用或連結此文件: http://ir.hust.edu.tw/dspace/handle/310993100/7206

题名: 氧化鋅薄膜摻雜銅元素之晶體結構特性分析研究
作者: 許秦維;林祐崧;高旭賢;黃禹博
贡献者: 電子工程系
关键词: 氧化鋅薄膜摻雜銅元素之晶體結構特性分析研究
日期: 2019-06
上传时间: 2020-06-20T08:29:51Z
摘要: 本研究是利用溶膠-凝膠法(Sol-gel)將氧化鋅摻雜銅元素(Zn1-xCuxO,x=0.1)薄膜製作在矽基板上,並使用加熱板(300oC)及快速熱退火熱處理(400oC~700oC,4種熱處理溫度)比較分析不同熱處理溫度(400oC~700oC)對氧化鋅晶體結構特性之影響,透過XRD量測分析氧化鋅奈米線摻雜摻雜銅元素之繞射峰強度與其晶相生長之關係,研究結果得知氧化鋅摻雜銅元素之繞射峰(002)晶相具有最優良的取向成長,且熱處理溫度700oC的晶體結構會有最佳晶體結構。
显示于类别:[電子工程系] 學生專題

文件中的档案:

档案 大小格式浏览次数
氧化鋅薄膜摻雜銅元素之晶體結構特性分析研究5-1.pdf2352KbAdobe PDF416检视/开启

在HUSTIR中所有的数据项都受到原著作权保护.

 


DSpace Software Copyright © 2002-2004  MIT &  Hewlett-Packard  /   Enhanced by   NTU Library IR team Copyright ©   - 回馈