Hsiuping University of Science and Technology Institutional Repository : Item 310993100/1958

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Title:	非導體基材化學鍍之研究
Authors:	張源鈞郭煒聖張溢洧張銘華黃威凱陳亨計李駿華
Contributors:	化學工程系
Date:	2009-12-30
Issue Date:	2011-01-25T07:36:15Z
Abstract:	本實驗使用ABS非導體基材進行化學鍍鎳與鍍銅，主要探討各種配位劑及穩定劑對其之影響，配位劑使用檸檬酸鈉、酒石酸鉀鈉、焦磷酸鈉及醋酸鈉。穩定劑則使用Thiourea。配位劑中檸檬酸鈉最為穩定，但速率較慢；酒石酸鉀鈉速率快而不穩定；焦磷酸鈉鍍層細緻，但鍍液易分解；醋酸鈉則針孔率高，較不適用於化學鍍。穩定劑中，硫脲的效果極好，但份量控制困難。以此為基礎，可以進而探討其他條件，測試其其他性能，得到可供應用的鍍液配方。
Appears in Collections:	[Department of Energy and Materials Technology] Monograph

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