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http://ir.hust.edu.tw/dspace/handle/310993100/2515
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題名: | 致冷晶片應用及最佳化探討 |
作者: | 邱孝昇 |
貢獻者: | 電機工程系 |
關鍵詞: | 致冷晶片 席貝克效應 柏爾沾效應 |
日期: | 2011-04-29
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上傳時間: | 2011-10-14T13:53:43Z
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摘要: | 十九世紀半導體吸放熱原理被發現後,許多科學家便開始去琢磨其中可應用的範
圍,直到大型半導體晶粒去實驗其循環過程發展到了二十世紀,利用最小奈米化
的製成許多P型與N型半導體串接成一個效能明顯的致冷晶片。
本專體系利用致冷晶片的冷熱端溫差去控制,可提供未來設計此類應用的設計者
一個設計概念 |
顯示於類別: | [電機工程系(含碩士班)] 學生專題
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