Hsiuping University of Science and Technology Institutional Repository : Item 310993100/6604

English | 正體中文 | 简体中文 | Items with full text/Total items : 4334/7631
Visitors : 3204518 Online Users : 262

RC Version 3.2 © Powered By DSPACE, MIT. Enhanced by NTU Library IR team.

Scope Adv. Search

Login ‧ Upload ‧ Help ‧ About ‧ Administer

HUSTIR > College of Engineering > Department of Electronic Engineering > Monograph > Item 310993100/6604

Please use this identifier to cite or link to this item: http://ir.hust.edu.tw/dspace/handle/310993100/6604

Title:	厚度效應對氧化鋅薄膜的光學與微結構影響
Authors:	古豐誠林淵棋蔣秉均丁辰興
Contributors:	電子工程系
Keywords:	氧化鋅電子顯微鏡溶膠凝膠法旋轉塗佈法光譜儀
Date:	2018-06-19
Issue Date:	2018-09-28T02:59:30Z
Abstract:	氧化鋅是目前很有潛力的光電半導體材料之一，具有直接寬能隙(3.34 eV)，有易蝕刻、成本低、資源豐富且不具毒性等優點、在熱穩定性及化學穩定性上也有很好的表現。本實驗主要是研究利用溶膠凝膠法(Sol-gel method)加上旋轉塗佈技術在康寧玻璃基板上製作氧化鋅(ZnO)透明薄膜，於8層、10層與12層不同旋度次數下做薄膜披覆，再使用快速熱退火(RTA)處理。探討薄膜在不同厚度的情況下，對氧化鋅薄膜特性的影響。然後使用X光繞射儀(XRD)分析晶體結構，之後使用電子顯微鏡(SEM)觀察薄膜表面形貌，分析不同的厚度對薄膜微結構的影響。而在光學特性方面使用UV-VIS-NIR光譜儀檢測薄膜的穿透率以利推算出光學能隙值。
Appears in Collections:	[Department of Electronic Engineering] Monograph

Files in This Item:

There are no files associated with this item.