Hsiuping University of Science and Technology Institutional Repository : Item 310993100/6604
English  |  正體中文  |  简体中文  |  全文笔数/总笔数 : 4334/7631
造访人次 : 3204336      在线人数 : 178
RC Version 3.2 © Powered By DSPACE, MIT. Enhanced by NTU Library IR team.
搜寻范围 进阶搜寻

jsp.display-item.identifier=請使用永久網址來引用或連結此文件: http://ir.hust.edu.tw/dspace/handle/310993100/6604

题名: 厚度效應對氧化鋅薄膜的光學與微結構影響
作者: 古豐誠
林淵棋
蔣秉均
丁辰興
贡献者: 電子工程系
关键词: 氧化鋅
電子顯微鏡
溶膠凝膠法
旋轉塗佈法
光譜儀
日期: 2018-06-19
上传时间: 2018-09-28T02:59:30Z
摘要: 氧化鋅是目前很有潛力的光電半導體材料之一，具有直接寬能隙(3.34 eV)，有易蝕刻、成本低、資源豐富且不具毒性等優點、在熱穩定性及化學穩定性上也有很好的表現。
本實驗主要是研究利用溶膠凝膠法(Sol-gel method)加上旋轉塗佈技術在康寧玻璃基板上製作氧化鋅(ZnO)透明薄膜，於8層、10層與12層不同旋度次數下做薄膜披覆，再使用快速熱退火(RTA)處理。探討薄膜在不同厚度的情況下，對氧化鋅薄膜特性的影響。然後使用X光繞射儀(XRD)分析晶體結構，之後使用電子顯微鏡(SEM)觀察薄膜表面形貌，分析不同的厚度對薄膜微結構的影響。而在光學特性方面使用UV-VIS-NIR光譜儀檢測薄膜的穿透率以利推算出光學能隙值。
显示于类别:[電子工程系] 學生專題

文件中的档案:

没有与此文件相关的档案.

在HUSTIR中所有的数据项都受到原著作权保护.

 

DSpace Software Copyright © 2002-2004  MIT &  Hewlett-Packard  /   Enhanced by   NTU Library IR team Copyright ©   - 回馈