English  |  正體中文  |  简体中文  |  全文筆數/總筆數 : 4334/7631
造訪人次 : 3184077      線上人數 : 253
RC Version 3.2 © Powered By DSPACE, MIT. Enhanced by NTU Library IR team.
搜尋範圍 進階搜尋

請使用永久網址來引用或連結此文件: http://ir.hust.edu.tw/dspace/handle/310993100/7975

題名: 製作鐵酸鉍参鋁箔膜於ITO基板上之特性研究
作者: 盧仕勛;蔡丞冠;吳宇軒;施凱棠
貢獻者: 電子工程系
關鍵詞: 製作鐵酸鉍参鋁箔膜於ITO基板上之特性研究
日期: 2022-06
上傳時間: 2022-12-05T02:13:49Z
摘要: 本研究是利用溶膠-凝膠法，鐵酸鉍摻鋁元素(BiFeO3)薄膜，製作在透明玻璃片(ITO)基板上，鋁的摻量X為0%、2%、4%、6%、8%，並使用快速熱退火熱處理溫度為600度，量測BiFe1-xAlxO3 (x=0、0.02、0.04、0.06、0.08)薄膜的微結構、鐵電性特性，後續要再用RTA燒結600度，探討BiFe1-xAlxO3薄膜在ITO基板上成長的特性。
顯示於類別:[電子工程系] 學生專題

文件中的檔案:

沒有與此文件相關的檔案.

在HUSTIR中所有的資料項目都受到原著作權保護.

 

DSpace Software Copyright © 2002-2004  MIT &  Hewlett-Packard  /   Enhanced by   NTU Library IR team Copyright ©   - 回饋