Hsiuping University of Science and Technology Institutional Repository : Item 310993100/8116
English  |  正體中文  |  简体中文  |  全文笔数/总笔数 : 4343/7642
造访人次 : 3662675      在线人数 : 603
RC Version 3.2 © Powered By DSPACE, MIT. Enhanced by NTU Library IR team.
搜寻范围 进阶搜寻

jsp.display-item.identifier=請使用永久網址來引用或連結此文件: http://ir.hust.edu.tw/dspace/handle/310993100/8116

题名: 鐵酸鉍薄膜於不同厚度及退火溫度下之特性分析
作者: 胡順傑
林宗佑
丁景鴻
贡献者: 電子工程系
关键词: BiFeO3
XRD
PT
多鐵性材料
日期: 2023-06
上传时间: 2023-07-31T06:01:58Z
摘要: 我們的研究是以旋轉塗佈法來將BiFeO3沉積在白金基板上,並使用快速升溫爐(RTA)進行熱退火處理,最後經過X 光繞射儀(XRD)數據分析,我們會先以同樣BiFeO3 薄膜層數不同溫度來做初步觀察,BiFeO3 薄膜在經過X光繞射儀得出的數據來探討薄膜結晶狀態以找出BiFeO3 薄膜最佳結晶溫度,先以薄膜層數為10層而退火溫度則分別為500、550、600、650度,在觀察後得知在退火溫度550度以及600度時BiFeO3薄膜擁有相對較強晶相,因此選用550、600度去做不同的薄膜層數來做進一步分析與探討,之後以薄膜層數分別為4、6、14層,在此次數據中我們觀察到當BiFeO3 薄膜厚度越高晶面強度也隨之提高。
显示于类别:[電子工程系] 學生專題

文件中的档案:

没有与此文件相关的档案.

在HUSTIR中所有的数据项都受到原著作权保护.

 


DSpace Software Copyright © 2002-2004  MIT &  Hewlett-Packard  /   Enhanced by   NTU Library IR team Copyright ©   - 回馈