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http://ir.hust.edu.tw/dspace/handle/310993100/5013
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| 題名: | 裝飾性非晶質碳氫薄膜之研究 |
| 作者: | 祝恆頤;蔡志宏;江柏融;詹佩儀 |
| 貢獻者: | 修平科技大學電子工程系 |
| 關鍵詞: | "射頻電 漿沉積" |
| 日期: | 2015
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| 上傳時間: | 2016-05-14T08:17:03Z
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| 摘要: | "本研究利用甲苯溶劑取得碳的來源，以進行電將輔助化學氣相沉積a-C:H
薄膜。甲苯溶液前驅物透過加熱氣化，以管路導入真空腔體內利用射頻電
漿沉積a-C:H 薄膜在矽基材上。透過拉曼光譜分析顯示，隨著射頻功率越
高，a-C:H 薄膜之ID/IG 越大。實驗結果以250 瓦射頻所沉積之a-C:H 薄膜
越接近類鑽成分。本研究利用不同厚度之a-C:H 薄膜，因入射光線與a-C:H
薄膜產生干涉而導致薄膜顏色產生差異。因此利用這項技術可以將生活中
的金屬物品鍍上一層不同厚度之裝飾性a-C:H 薄膜，可讓物品有不同的顏
色及硬度，並具有保護的效果。" |
| 顯示於類別: | [電子工程系] 學生專題
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