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http://ir.hust.edu.tw/dspace/handle/310993100/6604
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題名: | 厚度效應對氧化鋅薄膜的光學與微結構影響 |
作者: | 古豐誠 林淵棋 蔣秉均 丁辰興 |
貢獻者: | 電子工程系 |
關鍵詞: | 氧化鋅 電子顯微鏡 溶膠凝膠法 旋轉塗佈法 光譜儀 |
日期: | 2018-06-19
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上傳時間: | 2018-09-28T02:59:30Z
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摘要: | 氧化鋅是目前很有潛力的光電半導體材料之一,具有直接寬能隙(3.34 eV),有易蝕刻、成本低、資源豐富且不具毒性等優點、在熱穩定性及化學穩定性上也有很好的表現。
本實驗主要是研究利用溶膠凝膠法(Sol-gel method)加上旋轉塗佈技術在康寧玻璃基板上製作氧化鋅(ZnO)透明薄膜,於8層、10層與12層不同旋度次數下做薄膜披覆,再使用快速熱退火(RTA)處理。探討薄膜在不同厚度的情況下,對氧化鋅薄膜特性的影響。然後使用X光繞射儀(XRD)分析晶體結構,之後使用電子顯微鏡(SEM)觀察薄膜表面形貌,分析不同的厚度對薄膜微結構的影響。而在光學特性方面使用UV-VIS-NIR光譜儀檢測薄膜的穿透率以利推算出光學能隙值。 |
顯示於類別: | [電子工程系] 學生專題
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